光信号処理装置及び光信号処理方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人ドライト国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020115195
Publication number (International publication number)：2022012983
Application date： Jul. 02, 2020
Publication date： Jan. 18, 2022
Summary：

【課題】簡単な構成で信号光の直交する2偏波の複素振幅の実部と虚部を取得できる光信号処理装置及び光信号処理方法を提供する。【解決手段】光信号処理装置10は、干渉部15で信号光と、互いに偏光状態が直交する第1局発光、第2局発光とを干渉させ、信号光と第1局発光と第2局発光とが互いに異なる位相関係でそれぞれ干渉した第1~第5干渉光を生成する。受光ユニット16は、第1~第5干渉光を受光して第1~第5受光信号を出力し、差分ユニット17は、第1~第5受光信号の信号同士の差分である第1~第4差分信号を生成する。第1~第4差分信号に基づいてデジタル信号処理部18が信号光の直交する2つの偏波の複素振幅の実部成分と虚部成分をそれぞれ求める。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

信号光に、互いに偏光状態が直交する第1局発光及び第2局発光を干渉させ、前記信号光と前記第1局発光と前記第2局発光とを互いに異なる位相関係でそれぞれ干渉させた第1~第5干渉光を生成する干渉光生成工程と、前記第1~第5干渉光をそれぞれ受光素子で受光して電気的な第1~第5受光信号に変換する受光工程と、 mを1,2,3,4としたときに、第m受光信号と第m+1受光信号との差分である第m差分信号を得る差分工程と、前記第1~4差分信号を用いて前記信号光の直交する2つの偏波の複素振幅の実部成分と虚部成分をそれぞれ得る演算工程とを有し、前記信号光の複素電界ベクトルをE s 、前記第1局発光の偏光状態を表す2次元単位ベクトルをe 1 、前記第2局発光の偏光状態を表す2次元単位ベクトルをe 2 、nを1,2,・・・5として複素数の係数a n ,b n ,c n を用いて、第n干渉光の複素電界ベクトルE n が「E n =a n E s +b n e 1 +c n e 2 」で表されるときに、式(I)で表す行列Rが正則行列となるとともに、前記係数a 1 ~a 5 の絶対値の二乗値がほぼ同じであることを特徴とする光信号処理方法。

IPC (3)：

G02F 2/00 , H04B 10/61 , G02F 1/225

FI (3)：

G02F2/00 , H04B10/61 , G02F1/225

F-Term (15)：

2K102BA40 , 2K102BC01 , 2K102BD01 , 2K102CA20 , 2K102DA05 , 2K102DD03 , 2K102EA22 , 2K102EB01 , 2K102EB22 , 5K102AA15 , 5K102AD15 , 5K102AH14 , 5K102PH31 , 5K102PH49 , 5K102RB07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

スキュー低減方法および光伝送システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-089131 Applicant：富士通株式会社

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