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J-GLOBAL ID:202203009392005175

テクスチャ生成装置、テクスチャ生成方法、およびプログラム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 中尾 直樹 ,  中村 幸雄 ,  義村 宗洋
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2020508409
Publication number (International publication number):2021106049
Patent number:7074230
Application date: Nov. 18, 2019
Publication date: Jul. 26, 2021
Claim (excerpt):
【請求項1】 表面に凹凸の二次元分布を有する対象物体の表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する原画像の空間周波数分布のwavelet statisticsのヒストグラムを、表面に凹凸の二次元分布を有する参照物体の表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する参照画像の空間周波数分布のwavelet statisticsのヒストグラムと同一にする変換を前記原画像に対して行うことにより、物体表面の各位置の深さを表す値を各画素値として有する変調画像を生成し、 前記変調画像の各画素値を各位置の深さとした凹凸の二次元分布を表面に有する変調物体を生成する、テクスチャ生成装置。
IPC (3):
G06T 11/00 ( 200 6.01) ,  G06T 5/40 ( 200 6.01) ,  G06F 30/10 ( 202 0.01)
FI (3):
G06T 11/00 110 ,  G06T 5/40 ,  G06F 30/10 100
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
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