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J-GLOBAL ID:202203010301168350

植物体の水分ストレス制御装置及び植物体の水分ストレス制御方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 阿部 伸一 ,  太田 貴章
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2022018479
Publication number (International publication number):2022122289
Application date: Feb. 09, 2022
Publication date: Aug. 22, 2022
Summary:
【課題】飽差の時間二次微分値を用いることで、植物体に対して水分ストレスが増大する施設内環境を回避することができる植物体の水分ストレス制御装置及び植物体の水分ストレス制御方法を提供すること。 【解決手段】本発明の植物体の水分ストレス制御装置は、制御手段30は、飽差計測手段11で計測される飽差の時間二次微分値を算出する二次微分値算出部40と、二次微分値算出部40で算出される飽差の時間二次微分値に基づいて施設内の湿度を制御することを特徴とする。 【選択図】図1
Claim (excerpt):
施設内の飽差を計測する飽差計測手段と、前記施設内を加湿する加湿手段を制御する制御手段とを有する、前記施設内において栽培される植物体の水分ストレス制御装置であって、 前記制御手段は、 前記飽差計測手段で計測される前記飽差の時間二次微分値を算出する二次微分値算出部を備え、 前記二次微分値算出部で算出される前記飽差の前記時間二次微分値に基づいて前記施設内の湿度を制御する、植物体の水分ストレス制御装置。
IPC (2):
A01G 9/24 ,  A01G 7/00
FI (2):
A01G9/24 Z ,  A01G7/00 601Z
F-Term (8):
2B022AA01 ,  2B022DA19 ,  2B029GA10 ,  2B029MA01 ,  2B029MA04 ,  2B029MA06 ,  2B029MA07 ,  2B029TA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 水耕栽培装置及び水耕栽培方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2014-081747   Applicant:パナソニックIPマネジメント株式会社
  • 植物苗高湿度処理装置及びその処理方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-080217   Applicant:日立冷熱株式会社
  • 実願平04-85408号(実開平06-086436号)の願書に最初に添付した明細書及び図面の内容を記録したCD-ROM(平成6年12月20日特許庁発行)
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