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J-GLOBAL ID:202203013982681530
細胞への物質導入装置、および細胞への物質導入方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
南瀬 透
, 加藤 久
, 遠坂 啓太
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2020011538
Publication number (International publication number):2020120653
Patent number:7176770
Application date: Jan. 28, 2020
Publication date: Aug. 13, 2020
Claim (excerpt):
【請求項1】 細胞と、導入物質とを含む混合物に、パルス幅が100nsec~500nsec、かつ電界が1.0kV/cm~30kV/cmである第一の電気パルスを印加する第一の電気パルス印加手段と、 前記第一の電気パルス印加後に、前記混合物に、パルス幅が200μsec~1sec、かつ電界が50V/cm~2,500V/cmである第二の電気パルスを印加する第二の電気パルス印加手段と、を有し、 さらに、前記第二の電気パルス印加手段が、パルス幅および電圧を、所定の範囲で調整することができる調整手段を有し、 前記調整手段が、パルス幅の最小値から最大値までの比(パルス幅の最大値/パルス幅の最小値)を30倍以上の比となる範囲で設定できる細胞への物質導入装置。
IPC (4):
C12M 1/42 ( 200 6.01)
, C12M 1/00 ( 200 6.01)
, C12N 15/87 ( 200 6.01)
, C12N 13/00 ( 200 6.01)
FI (4):
C12M 1/42
, C12M 1/00 A
, C12N 15/87 Z
, C12N 13/00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (3)
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