粒径50 nm以下で均一なラテックスのクリーン合成プロセスの開発および規則的ナノ構造材料への応用

Study period：2014 - 2015
Organization (1)：
Research responsibility： ( , 工学研究科, 助教 )
Research overview：

粒子径50 nm以下で、粒径均一性の高いラテックスの新規合成法を確立した。スチレン(St)とメタクリル酸メチル(MMA)の乳化共重合系を適用し、界面活性剤濃度は既往の乳化重合系に比べ1/10以下で行った。CMCが低い界面活性剤を用いたとき、その濃度が1 mM 以下とごく微量の条件で粒径50 nm以下の単分散ラテックスの合成に成功した(原料モノマー濃度約3 wt%)。原料モノマー濃度が高い条件においてもまた、小粒径な単分散ラテックスの合成に成功した。合成したラテックスは、自己組織化により周期的で規則的な粒子配列体を形成し、また従来技術では作製が困難な3次元構造を有するナノ構造材料の鋳型として有用であった。

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Research program：＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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粒径50 nm以下で均一なラテックスのクリーン合成プロセスの開発 および規則的ナノ構造材料への応用

粒径50 nm以下で均一なラテックスのクリーン合成プロセスの開発および規則的ナノ構造材料への応用