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J-GLOBAL ID：202303005286658510

光学測定システム

Inventor： 福谷 義樹 ,  牟田口 綾夏 ,  長沢 広也 ,  村上 典彦 ,  西田 幸次 ,  古谷 勉 ,  小島 広之 ,  古賀 毅
Applicant, Patent owner： 大塚電子株式会社 ,  国立大学法人京都大学
Agent (1)： 弁理士法人深見特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022139055
Publication number (International publication number)：2023064699
Application date： Sep. 01, 2022
Publication date： May. 11, 2023
Summary：

【課題】試料に光ビームを照射することで試料を測定する光学測定システムにおいて、測定精度を高めることができる新規な構成を提供する。 【解決手段】光学測定システムは、光ビームを発生する光源と、光源と試料との間に配置され、光ビームの偏光方向を制限する偏光子と、光ビームが試料に照射されて生じる散乱光を観測する検出器と、試料と検出器との間に配置された検光子とを含む。検光子は、光ビームの光軸との交差位置を含む光軸中心領域に入射する光に対して、光軸中心領域以外の領域に入射する光より大きな減衰を与える。 【選択図】図2

Claim (excerpt)：

光ビームを発生する光源と、 前記光源と試料との間に配置され、前記光ビームの偏光方向を制限する偏光子と、 前記光ビームが前記試料に照射されて生じる散乱光を観測する検出器と、 前記試料と前記検出器との間に配置された検光子とを備え、 前記検光子は、前記光ビームの光軸との交差位置を含む光軸中心領域に入射する光に対して、前記光軸中心領域以外の領域に入射する光より大きな減衰を与える、光学測定システム。

IPC (1)：

G01N 21/49

FI (1)：

G01N21/49 Z

F-Term (10)：

2G059AA05 ,  2G059BB08 ,  2G059EE01 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059KK04 ,  2G059LL02 ,  2G059NN06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 光散乱測定を利用した物質の構造解析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-095219   Applicant：大塚電子株式会社