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J-GLOBAL ID：202303005312557786

フッ素化膜を備えたフッ素化構造体、該構造体の製造方法、及び該構造体の製造に用いる前駆溶液

Inventor： 浦田 千尋 ,  佐藤 知哉 ,  穂積 篤
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (5)： 江藤 保子 ,  吉水 純子 ,  松本 悟 ,  奥井 正樹 ,  相田 悟
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022006919
Publication number (International publication number)：2023105900
Application date： Jan. 20, 2022
Publication date： Aug. 01, 2023
Summary：

【課題】基材上の所望の箇所に、優れた撥液性を付与することが可能な、フッ素化膜を備えたフッ素化構造体及びその構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】基材と該基材上に形成されたフッ素化膜とを備えたフッ素化構造体であって、前記フッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した、フッ素化構造体及びその製造方法を提供する。 X-C 2 H 4 -S-C 2 H 4 -R 1 -・・・(1) [式中、Xは、CF 3 (CF 2 ) n-1 (n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R 1 は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。] 【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基材と該基材上に形成されたフッ素化膜とを備えたフッ素化構造体であって、 前記フッ素化膜は、有機シランと金属アルコシキドが共加水分解・縮重合することにより得られるポリシロキサン骨格を含み、該ポリシロキサン骨格を形成するケイ素原子のうち一部のケイ素原子に、下記の式(1)で表される基が結合した、フッ素化構造体。 X-C 2 H 4 -S-C 2 H 4 -R 1 -・・・(1) [式中、Xは、CF 3 (CF 2 ) n-1 (n=1~10の整数)で表されるフルオロアルキル基を表し、R 1 は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。]

IPC (5)：

C08G 77/392 ,  C08G 77/385 ,  B32B 27/00 ,  B05D 7/24 ,  B05D 1/36

FI (9)：

C08G77/392 ,  C08G77/385 ,  B32B27/00 101 ,  B05D7/24 302L ,  B05D7/24 303A ,  B05D7/24 302Y ,  B05D7/24 301B ,  B05D7/24 303E ,  B05D1/36 Z

F-Term (83)：

4D075AC64 ,  4D075AD06 ,  4D075AD09 ,  4D075AE03 ,  4D075BB21Z ,  4D075BB24Z ,  4D075BB26Z ,  4D075BB46X ,  4D075BB60Z ,  4D075BB61Z ,  4D075BB63Z ,  4D075BB68Z ,  4D075BB69Z ,  4D075BB92Y ,  4D075CA17 ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075CA47 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB06 ,  4D075DB07 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075EA06 ,  4D075EA07 ,  4D075EB14 ,  4D075EB16 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EB51 ,  4D075EC07 ,  4D075EC08 ,  4D075EC30 ,  4D075EC37 ,  4D075EC51 ,  4F100AB10B ,  4F100AB11B ,  4F100AB17B ,  4F100AB21B ,  4F100AB31B ,  4F100AG00B ,  4F100AK52A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100DC00A ,  4F100DD01A ,  4F100DJ00A ,  4F100EH462 ,  4F100EH46A ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ08A ,  4F100YY00A ,  4J246AA03 ,  4J246AA19 ,  4J246BA260 ,  4J246BA26X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246BB02X ,  4J246CA340 ,  4J246CA349 ,  4J246CA34U ,  4J246CA34X ,  4J246CA460 ,  4J246CA469 ,  4J246CA46M ,  4J246CA46X ,  4J246CA820 ,  4J246CA829 ,  4J246CA82M ,  4J246CA82X ,  4J246FA071 ,  4J246FA232 ,  4J246FA372 ,  4J246FA441 ,  4J246FB051 ,  4J246FE07 ,  4J246GB33 ,  4J246GC49 ,  4J246GD08 ,  4J246HA26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 有機-無機透明ハイブリッド皮膜とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-202523   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
• 透明ハイブリッド皮膜とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-125381   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所