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J-GLOBAL ID：202303006255025272

レーザアニールシステム

Inventor： 妹川 要 ,  納富 良一 ,  若林 理 ,  池上 浩
Applicant, Patent owner： ギガフォトン株式会社 ,  国立大学法人九州大学
Agent (1)： 松浦 憲三
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：9009078
Patent number：7397447
Application date： Mar. 07, 2019
Claim (excerpt)：

【請求項1】 第1のパルス時間幅の第1のパルスレーザ光と前記第1のパルス時間幅よりも短い第2のパルス時間幅の第2のパルスレーザ光を出力するレーザシステムと、 前記第1のパルスレーザ光及び前記第2のパルスレーザ光を被照射物に照射するレーザアニール装置と、を含み、 前記レーザアニール装置は、 前記第1のパルスレーザ光及び前記第2のパルスレーザ光を前記被照射物に導く照射光学系と、 前記被照射物に対する前記第1のパルスレーザ光及び前記第2のパルスレーザ光の照射位置を相対的に移動させる移動機構と、 前記第1のパルスレーザ光を前記被照射物に照射し、前記第1のパルスレーザ光の照射後に、前記被照射物における前記第1のパルスレーザ光が照射された領域に前記第2のパルスレーザ光を照射するように前記レーザシステムを制御する制御部と、 を含み、 前記レーザシステムは、 パルスレーザ光を出力するレーザ発振器と、 前記レーザ発振器から出力されたパルスレーザ光をパルスストレッチする光学パルスストレッチャと、 前記光学パルスストレッチャの光路を切り替えるように前記光路上に配置する光学素子を切り替える光学素子切替ユニットと、を含み、 前記制御部は、前記光学素子切替ユニットを制御して前記光路上の前記光学素子の切り替えを行うことにより、前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光の出力を制御する、 レーザアニールシステム。

IPC (4)：

H01L 21/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/268 ( 200 6.01) ,  H01L 21/336 ( 200 6.01) ,  H01L 29/786 ( 200 6.01)

FI (5)：

H01L 21/20 ,  H01L 21/268 T ,  H01L 21/268 F ,  H01L 29/78 627 G ,  H01L 21/268 G