Pat
J-GLOBAL ID:202303009039943916

光干渉断層画像撮像装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 保立 浩一
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2017167960
Publication number (International publication number):2019045271
Patent number:7217446
Application date: Aug. 31, 2017
Publication date: Mar. 22, 2019
Claim (excerpt):
【請求項1】 400nm以上3000nm以下の波長範囲において200nm以上の波長帯域に亘って連続スペクトルである光を出射する一つの光源部と、 光源部から出射される光を、測定光と参照光とに分割するとともに、測定光を被観察部位に照射し、当該被観察部位からの反射光と参照光との干渉光を発生させる光学系と、 反射光と参照光との干渉光の強度を検出する検出部と、 検出部で検出された干渉光の強度に基づいて、被観察部位の断層画像を取得する演算処理部と、 被観察部位からの反射光の波長帯域から、前記一つの光源部が出射する連続スペクトルである光の波長帯域よりも狭い少なくとも二つの異なる波長帯域を同時に選択可能な帯域選択部とを備えており、 検出部は、帯域選択部が選択した少なくとも二つの異なる波長帯域において干渉光の強度を検出することが可能なものであり、 演算処理部は、帯域選択部が選択した少なくとも二つの異なる波長帯域において検出された干渉光の強度に基づいて被観察部位の断層画像を取得することが可能となっており、帯域選択部が選択しなかった波長帯域については被観察部位の断層画像を取得しないものであることを特徴とする光干渉断層画像撮像装置。
IPC (3):
G01N 21/17 ( 200 6.01) ,  A61B 3/10 ( 200 6.01) ,  A61B 18/22 ( 200 6.01)
FI (3):
G01N 21/17 630 ,  A61B 3/10 100 ,  A61B 18/22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
Show all

Return to Previous Page