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J-GLOBAL ID：202303010186175620

立体造形システム

Inventor： 木ノ村 幸士 ,  岩本 達也 ,  原槙 真也 ,  森山 英明
Applicant, Patent owner： 大成建設株式会社 ,  独立行政法人国立高等専門学校機構
Agent (1)： 弁理士法人磯野国際特許商標事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2021102710
Publication number (International publication number)：2023001779
Application date： Jun. 21, 2021
Publication date： Jan. 06, 2023
Summary：

【課題】セメント系材料を積層して立体的な造形物を形成する場合において、層間の縞模様を解消する。 【解決手段】立体造形システムは、セメント系材料を積層して立体的な造形物を形成するものである。この立体造形システムは、セメント系材料を吐出するノズル13と、ノズル13に取り付けられ、ノズル13から吐出されたセメント系材料の表面を仕上げる仕上げ装置3とを備えている。仕上げ装置3は、セメント系材料の吐出方向に進出した位置へ先端部が来るように移動可能なコテ31A,31Bを有している。 【選択図】図3

Claim (excerpt)：

セメント系材料を積層して立体的な造形物を形成する立体造形システムであって、 前記セメント系材料を吐出するノズルと、 前記ノズルに取り付けられ、前記ノズルから吐出された前記セメント系材料の表面を仕上げる仕上げ装置と、を備え、 前記仕上げ装置は、前記セメント系材料の吐出方向に進出した位置へ先端部が来るように移動可能なコテを有することを特徴とする立体造形システム。

IPC (4)：

B28B 1/30 ,  B33Y 10/00 ,  B33Y 30/00 ,  B33Y 50/02

FI (4)：

B28B1/30 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02

F-Term (4)：

4G052DA01 ,  4G052DA08 ,  4G052DB12 ,  4G052DC06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 付加製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2017-017580   Applicant：太平洋セメント株式会社, 学校法人法政大学, 有限会社ニコラデザイン・アンド・テクノロジー
• 建設向け立体造形用セメント質材料及び建設向けの立体造形方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2017-036810   Applicant：デンカ株式会社, 株式会社大林組