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J-GLOBAL ID：202303015878536528

VOC処理用触媒の製造方法

Inventor： 井上 研一郎 ,  染川 正一 ,  川見 佳正 ,  藤原 哲之
Applicant, Patent owner： 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター ,  三谷産業株式会社
Agent (2)： 小野 悠樹 ,  西澤 利夫
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2019148834
Publication number (International publication number)：2021030098
Patent number：7344505
Application date： Aug. 14, 2019
Publication date： Mar. 01, 2021
Claim (excerpt)：

【請求項1】 以下の工程(a)~(c):(a)白金を原料とする担持液を調製する工程;(b)コバルト・セリウム系複合酸化物を担持した担体を、前記担持液に浸漬する工程;及び(c)前記浸漬後の担体を焼成する工程を含み、 前記工程(a)における前記白金として、分散剤で保護された白金コロイドの溶液の原料を用い、 前記工程(b)において、前記担体は、ステンレス鋼、鉄鋼、銅合金、アルミニウム合金及びセラミックス材の何れか1つを所望形状に成形したものであり、 前記コバルト・セリウム系複合酸化物上に白金を直接担持することを特徴とするVOC処理用触媒の製造方法。

IPC (4)：

B01J 23/89 ( 200 6.01) ,  B01J 37/02 ( 200 6.01) ,  B01J 37/08 ( 200 6.01) ,  B01D 53/86 ( 200 6.01)

FI (4)：

B01J 23/89 ZAB A ,  B01J 37/02 101 D ,  B01J 37/08 ,  B01D 53/86 280

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• VOC処理用触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2017-131884   Applicant：地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター
• 重金属と希土類元素の結晶性化合物の触媒によるガスおよび蒸気の酸化還元方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-053938   Applicant：クリスティアン・コッホ
• 水素製造用触媒、その触媒の製造方法およびその触媒を用いた水素の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-136004   Applicant：株式会社日本触媒