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J-GLOBAL ID：202303017709073570

立体造形システムおよび立体造形方法

Inventor： 木ノ村 幸士 ,  岩本 達也 ,  原槙 真也
Applicant, Patent owner： 大成建設株式会社 ,  独立行政法人国立高等専門学校機構
Agent (1)： 弁理士法人磯野国際特許商標事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2021129298
Publication number (International publication number)：2023023622
Application date： Aug. 05, 2021
Publication date： Feb. 16, 2023
Summary：

【課題】セメント系材料の吐出量を安定させることができる立体造形システムおよび立体造形方法を提供する。 【解決手段】セメント系材料Cを積層して立体的な造形物を形成する立体造形システム100Aであって、セメント系材料Cを吐出するノズル13と、回転することでセメント系材料Cをノズル13から吐出させるスクリュと、ノズル13の吐出量に相関する情報を検出する検出装置6と、検出装置6の検出結果に基づいて、ノズル13の吐出量が一定になるように前記スクリュの回転速度を調整する制御装置5とを備える。 【選択図】図1

Claim (excerpt)：

セメント系材料を積層して立体的な造形物を形成する立体造形システムであって、 前記セメント系材料を吐出するノズルと、 回転することで前記セメント系材料を前記ノズルから吐出させるスクリュと、 前記ノズルの吐出量に相関する情報を検出する検出装置と、 前記検出装置の検出結果に基づいて、前記ノズルの吐出量が一定になるように前記スクリュの回転速度を調整する制御装置と、を備える、 ことを特徴とする立体造形システム。

IPC (4)：

B28B 1/30 ,  B33Y 30/00 ,  B33Y 10/00 ,  B33Y 50/02

FI (4)：

B28B1/30 ,  B33Y30/00 ,  B33Y10/00 ,  B33Y50/02

F-Term (4)：

4G052DA01 ,  4G052DA08 ,  4G052DB12 ,  4G052DC06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 付加製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2017-017580   Applicant：太平洋セメント株式会社, 学校法人法政大学, 有限会社ニコラデザイン・アンド・テクノロジー
• 建設向け立体造形用セメント質材料及び建設向けの立体造形方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2017-036810   Applicant：デンカ株式会社, 株式会社大林組