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J-GLOBAL ID：202303019593101884

光照射装置、イメージング装置、及びレーザー加工装置

Inventor： 種村 拓夫 ,  福井 太一郎 ,  中野 義昭 ,  山下 大之 ,  田之村 亮汰
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 東京大学
Agent (2)： 福田 充広 ,  吉田 裕美
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2019000901
Publication number (International publication number)：2020112582
Patent number：7281064
Application date： Jan. 07, 2019
Publication date： Jul. 27, 2020
Claim (excerpt)：

【請求項1】 光をそれぞれ通過させる複数の導光部と、 前記複数の導光部に設けた複数の射出ポートから射出させる光の位相を調整する位相調整部とを備え、 前記複数の射出ポートは、最小冗長間隔で配列され、 前記複数の射出ポートからの光の相互の干渉により一つの波面を形成する、光照射装置。

IPC (3)：

G02F 1/295 ( 200 6.01) ,  B23K 26/064 ( 201 4.01) ,  B23K 26/067 ( 200 6.01)

FI (3)：

G02F 1/295 ,  B23K 26/064 Z ,  B23K 26/067

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特許第9557585号
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• "The Triple Autocorrelation of an m-Sequence is a Lampel Costas Array"