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J-GLOBAL ID：202303020145370546

予測装置及び予測方法

Inventor： 田財(黒田) 佳樹 ,  西山 薫 ,  岸本 政徳 ,  河原 吉伸 ,  武石 直也
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社 ,  国立研究開発法人理化学研究所
Agent (1)： TRY国際弁理士法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022078470
Publication number (International publication number)：2023167351
Application date： May. 11, 2022
Publication date： Nov. 24, 2023
Summary：

【課題】 因子の選択の影響を低減しながらも、予測対象の予測精度を向上し得る予測装置及び予測方法を提供する。 【解決手段】 予測装置は、参照期間に関する予測対象の実績データを取得する取得部と、前記参照期間よりも後の予測期間に関する前記予測対象の予測データを予測する予測部と、を備え、前記予測部は、前記参照期間に関する前記予測対象の実績データの特徴ベクトルを予測モデルに入力し、前記予測モデルから出力されるデータを前記予測期間に関する前記予測対象の予測データとして予測し、前記予測モデルは、前記参照期間に関する前記予測対象の実績データの特徴ベクトル及び前記予測期間に関する前記予測対象の特徴ベクトルを学習パラメータとして学習することによって構築される。 【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

参照期間に関する予測対象の実績データを取得する取得部と、 前記参照期間よりも後の予測期間に関する前記予測対象の予測データを予測する予測部と、を備え、 前記予測部は、前記参照期間に関する前記予測対象の実績データの特徴ベクトルを予測モデルに入力し、前記予測モデルから出力されるデータを前記予測期間に関する前記予測対象の予測データとして予測し、 前記予測モデルは、前記参照期間に関する前記予測対象の実績データの特徴ベクトル及び前記予測期間に関する前記予測対象の特徴ベクトルを学習パラメータとして学習することによって構築される、予測装置。

IPC (2)：

G06Q 10/04 ,  G06Q 50/06

FI (2)：

G06Q10/04 ,  G06Q50/06

F-Term (2)：

5L049AA04 ,  5L049CC06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• データ予測システム及びその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2019-126321   Applicant：株式会社日立製作所