Proj
J-GLOBAL ID:202304013420623350  Research Project code:20351654

極限エピタキシー技術が拓く量子輸送の物理

極限エピタキシー技術が拓く量子輸送の物理
National award number:JPMJFR202N
Study period:2022 - 2028
Organization (1):
Principal investigator: ( , 理学院物理学系, 准教授 )
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJFR202N
Research overview:
化合物半導体に象徴されるように薄膜作製技術の向上は常に新しい量子輸送の物理を開拓してきました。本研究では、これまで結晶性・純度がそれぞれ課題となってきたヒ化物・酸化物の分子線エピタキシー成長技術を極限まで追求することで、トポロジカル・強相関物質の高品質なエピタキシャル薄膜とヘテロ構造の作製について強固な技術基盤を構築し、将来のエレクトロニクスの可能性を切り拓く革新的量子輸送機能の創出を目指します。
Terms in the title (4):
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
Research program:
Parent Research Project: 川村パネル
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency
Reports :

Return to Previous Page