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J-GLOBAL ID:202304015200135098  Research Project code:22688771

希少金属を使わない高移動度酸化チタン薄膜トランジスタの開発

希少金属を使わない高移動度酸化チタン薄膜トランジスタの開発
National award number:JPMJTM22AG
Study period:2022 - 2023
Organization (1):
Principal investigator: ( , 大学院理工学研究科, 教授 )
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJTM22AG
Research overview:
有機ELや液晶ディスプレイのアクティブマトリクスを構成する高移動度薄膜トランジスタを資源的に豊富で枯渇の恐れがない酸化チタンで実現する。そのために、原子層レベルで高度に調整された金属酸化物複合膜パッシベーションを室温原子層堆積法で形成し、高移動度化を図る。また、低抵抗化のためのイオンドープ調整を行う。
Terms in the title (5):
Terms in the title
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Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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