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J-GLOBAL ID：202403002498037297

プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法

Inventor： 中埜 吉博 ,  池原 譲
Applicant, Patent owner： 日本特殊陶業株式会社 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 弁理士法人グランダム特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022174012
Publication number (International publication number)：2024065258
Application date： Oct. 31, 2022
Publication date： May. 15, 2024
Summary：

【課題】タンパク質を含んだ溶液にプラズマを照射し、タンパク質の凝集膜を良好に形成する。 【解決手段】プラズマ照射装置2において、ガス流路30は、放出口34に向かってガスを流すように構成される。放電部40は、第1電極42及び第2電極44を備え、ガス流路30内でプラズマ放電を発生させる。電源部6は、第1電極42と第2電極44との間に周期的に変化する電圧を印加する。プラズマ照射装置2は、タンパク質を含んだ溶液にプラズマを照射し、プラズマの照射に応じて溶液から溶液外に流れる漏れ電流の実効値を1.2mAよりも大きくしつつ放出口34におけるガスの平均ガス流速を40mm/s以下とする制御を行う。 【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ガスの放出口を備えるとともに前記放出口に向かって前記ガスを流すガス流路と、 誘電体層と前記誘電体層を介して互いに対向して配置される第1電極及び第2電極とを備えるとともに前記ガス流路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、 前記第1電極と前記第2電極との間に周期的に変化する電圧を印加する電源部と、 を有し、 前記放電部が発生させたプラズマを前記放出口から放出し、タンパク質を含んだ溶液に照射するプラズマ照射装置であって、 前記プラズマの照射に応じて前記溶液から前記溶液外に流れる漏れ電流の実効値を1.2mAよりも大きくなるように調整する制御部と、前記放出口における前記ガスの平均ガス流速を40mm/s以下となるように調整する流量制御部と、を有する プラズマ照射装置。

IPC (2)：

H05H 1/26 ,  C08J 3/28

FI (2)：

H05H1/26 ,  C08J3/28

F-Term (22)：

2G084AA15 ,  2G084BB03 ,  2G084BB35 ,  2G084CC03 ,  2G084CC19 ,  2G084CC20 ,  2G084CC34 ,  2G084DD15 ,  2G084DD22 ,  2G084DD63 ,  2G084GG04 ,  2G084HH09 ,  2G084HH21 ,  2G084HH22 ,  2G084HH36 ,  2G084HH52 ,  4F070AA62 ,  4F070AC12 ,  4F070AE28 ,  4F070BA07 ,  4F070HA06 ,  4F070HB14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• タンパク質膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2014-102455   Applicant：国立大学法人名古屋大学, 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 学校法人杏林学園