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J-GLOBAL ID:202403004897016069

VOC処理用触媒、VOC処理装置およびVOCの処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 小野 悠樹 ,  西澤 利夫
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2019199262
Publication number (International publication number):2021069996
Patent number:7427187
Application date: Oct. 31, 2019
Publication date: May. 06, 2021
Claim (excerpt):
【請求項1】 炭化ケイ素(SiC)を主成分とする担体の表面に、コバルト(Co)とセリウム(Ce)の複合酸化物が直接担持されており、 前記複合酸化物は、平均粒子径0.8~2.0μmのコバルト酸化物粒子のまわりがコバルトイオンを前駆体とするコバルト酸化物およびセリウムイオンを前駆体とするセリウム酸化物で覆われており、 (i)平均粒子径0.8~2.0μmのコバルト酸化物粒子、(ii)コバルトイオンを前駆体とするコバルト酸化物、(iii)セリウムイオンを前駆体とするセリウム酸化物の質量比は、(i):20~50質量%、(ii):6~12質量%、(iii):39~66質量%であることを特徴とするVOC処理用触媒。
IPC (4):
B01J 27/224 ( 200 6.01) ,  B01D 53/86 ( 200 6.01) ,  B01J 23/83 ( 200 6.01) ,  C04B 41/85 ( 200 6.01)
FI (5):
B01J 27/224 ZAB A ,  B01D 53/86 275 ,  B01J 23/83 A ,  C04B 41/85 D ,  C04B 41/85 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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