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J-GLOBAL ID：202403005261974589

スラリー保管装置、スラリー製造システム及びスラリー保管方法

Inventor： 大西 慶一郎 ,  浅見 圭一 ,  向井 孝志 ,  坂本 太地 ,  田中 秀明 ,  妹尾 博 ,  柳田 昌宏
Applicant, Patent owner： 日本スピンドル製造株式会社 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 弁理士法人雄渾
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2020016442
Publication number (International publication number)：2021123366
Patent number：7506481
Application date： Feb. 03, 2020
Publication date： Aug. 30, 2021
Claim (excerpt)：

【請求項1】 粉体を分散部へ供給する粉体供給部と、 液体を分散部へ供給しつつスラリーを貯留するための攪拌タンクと、 粉体と溶媒とを混合する分散部と、 を備える分散装置と、 前記分散装置で調製されたハイニッケル材料を含有する水系スラリーを保管するスラリー保管装置とを備え、 前記スラリー保管装置はスラリーを保持する保持手段と、 前記保持手段で保持したスラリーに対して当該スラリーのpH値上昇を抑制するpH値上昇抑制手段と、を備えることを特徴とする、スラリー製造システム。

IPC (5)：

B65D 90/00 ( 200 6.01) ,  H01M 4/139 ( 201 0.01) ,  H01M 4/525 ( 201 0.01) ,  B01F 35/00 ( 202 2.01) ,  B01F 35/71 ( 202 2.01)

FI (5)：

B65D 90/00 A ,  H01M 4/139 ,  H01M 4/525 ,  B01F 35/00 ,  B01F 35/71