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J-GLOBAL ID：202403006960048696

レーザ溶接装置

Inventor： 菊地 俊文 ,  下玉利 淳也 ,  渡邊 眞生 ,  中村 大輔 ,  池上 浩
Applicant, Patent owner： 株式会社タマリ工業 ,  国立大学法人九州大学
Agent (1)： 岡田 伸一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022102255
Publication number (International publication number)：2024002820
Application date： Jun. 24, 2022
Publication date： Jan. 11, 2024
Summary：

【課題】安定した品質でレーザ溶接を行うことができるレーザ溶接装置を提供すること。 【解決手段】レーザ光70を構成するものであって第1強度を有する主ビーム71を生成する第1レンズ22、第2レンズ23、主ビーム移動手段21と、レーザ光70を構成するものであって第2強度を有する副ビーム72を生成するアキシコンレンズ25、第3レンズ27と、レーザ光70の走査パターン、主ビーム71のビームサイズ、副ビーム72のビームサイズ、主ビーム71の第1強度及び副ビーム72の第2強度を、ワーク2の状態に基づいて時間的に変化し得るように制御する制御手段53と、を備える。 【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザ光を溶接対象物に向けて照射し、前記レーザ光の前記溶接対象物に対する照射位置を走査しながら前記溶接対象物を溶融して溶接を行うレーザ溶接装置であって、 前記レーザ光を構成するものであって第1強度を有する主ビームを生成する主ビーム生成手段と、 前記レーザ光を構成するものであって第2強度を有する副ビームを生成する副ビーム生成手段と、 前記レーザ光の走査パターン、前記主ビームの形状、前記副ビームの形状、前記主ビームのビームサイズ、前記副ビームのビームサイズ、前記主ビームの前記第1強度及び前記副ビームの前記第2強度の少なくともいずれかを、前記溶接対象物の状態に基づいて時間的に変化し得るように制御する制御手段と、を備えることを特徴とするレーザ溶接装置。

IPC (3)：

B23K 26/21 ,  B23K 26/082 ,  B23K 26/067

FI (3)：

B23K26/21 E ,  B23K26/082 ,  B23K26/067

F-Term (15)：

4E168BA02 ,  4E168CA11 ,  4E168CB04 ,  4E168DA13 ,  4E168DA23 ,  4E168DA24 ,  4E168DA26 ,  4E168DA28 ,  4E168DA29 ,  4E168DA39 ,  4E168EA02 ,  4E168EA08 ,  4E168EA13 ,  4E168EA14 ,  4E168EA15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特許第6935484号公報