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J-GLOBAL ID：202403014330450871

メタノール合成システム及びその方法

Inventor： 阿尻 雅文 ,  笘居 高明 ,  横 哲 ,  成 基明 ,  福島 康裕 ,  菊池 康紀 ,  清水 輝之 ,  野口 多紀郎
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  国立大学法人 東京大学 ,  株式会社スーパーナノデザイン
Agent (1)： 備後 元晴
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：0007378
Patent number：7451865
Application date： Feb. 25, 2020
Claim (excerpt)：

【請求項1】 水素及び合成ガスの製造システムと、 前記水素及び前記合成ガスの少なくとも一部を原料としてメタノールを合成するメタノール合成システムとを備え、 前記水素及び合成ガスの製造システムは、 酸化された酸素キャリアと炭化水素系材料とを反応させ、水素と炭素酸化物とを生成する第1反応器と、 還元された酸素キャリアと水とを反応させ、前記酸化された酸素キャリアと水素とを生成する第2反応器とを有し、 前記酸素キャリアは、前記第1反応器と前記第2反応器とを循環流動する、メタノール合成装置。

IPC (8)：

C07C 29/152 ( 200 6.01) ,  C01B 3/06 ( 200 6.01) ,  C01B 3/24 ( 200 6.01) ,  C07C 29/151 ( 200 6.01) ,  C07C 31/04 ( 200 6.01) ,  C01F 17/235 ( 202 0.01) ,  C01G 37/00 ( 200 6.01) ,  C01G 49/00 ( 200 6.01)

FI (8)：

C07C 29/152 ,  C01B 3/06 ,  C01B 3/24 ,  C07C 29/151 ,  C07C 31/04 ,  C01F 17/235 ,  C01G 37/00 ,  C01G 49/00 A