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J-GLOBAL ID：202403015565641654

酸素還元触媒およびその製造方法

Inventor： 中村 潤児 ,  サント-シュ クマル シン ,  武安 光太郎 ,  本間 海斗 ,  森永 隆志 ,  伊藤 滋啓 ,  森 利之
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 筑波大学 ,  独立行政法人国立高等専門学校機構 ,  国立研究開発法人物質・材料研究機構
Agent (5)： 田▲崎▼ 聡 ,  飯田 雅人 ,  小林 淳一 ,  川越 雄一郎 ,  春田 洋孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022144151
Publication number (International publication number)：2024039532
Application date： Sep. 09, 2022
Publication date： Mar. 22, 2024
Summary：

【課題】酸性電解質中で、優れた触媒活性を示す酸素還元触媒材料及びその製造方法を提供する。 【解決手段】エッジ部にピリジン型窒素がドーピングされた窒素ドープグラフェンと、窒素ドープグラフェンに付着されたプロトン伝導体と、を有し、前記窒素ドープグラフェンは、籠状グラフェンを構成している、酸素還元触媒。 【選択図】図1

Claim (excerpt)：

エッジ部にピリジン型窒素がドーピングされた窒素ドープグラフェンと、前記窒素ドープグラフェンに付着されたプロトン伝導体と、を有し、 前記窒素ドープグラフェンは、籠状グラフェンを構成している、酸素還元触媒。

IPC (8)：

B01J 31/06 ,  B01J 37/04 ,  B01J 37/02 ,  B01J 27/24 ,  B01J 35/60 ,  H01M 4/86 ,  H01M 4/90 ,  B01J 35/50

FI (9)：

B01J31/06 M ,  B01J37/04 102 ,  B01J37/02 101A ,  B01J27/24 M ,  B01J35/10 301G ,  H01M4/86 M ,  H01M4/90 X ,  H01M4/86 B ,  B01J35/02 A

F-Term (55)：

4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BA08C ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BB04A ,  4G169BB08C ,  4G169BB20C ,  4G169BC01C ,  4G169BC02C ,  4G169BC35A ,  4G169BD01A ,  4G169BD02A ,  4G169BD02B ,  4G169BD02C ,  4G169BD04A ,  4G169BD06A ,  4G169BD06B ,  4G169BD12C ,  4G169BE17A ,  4G169BE32A ,  4G169CB81 ,  4G169CC32 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02X ,  4G169EA30 ,  4G169EB17X ,  4G169EB17Y ,  4G169EC17X ,  4G169EC17Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB03 ,  4G169FB06 ,  4G169FB15 ,  4G169FB17 ,  4G169FB57 ,  4G169FC02 ,  4G169FC03 ,  4G169FC10 ,  5H018AA01 ,  5H018BB01 ,  5H018BB05 ,  5H018BB06 ,  5H018BB12 ,  5H018EE05 ,  5H018EE12 ,  5H018EE17 ,  5H018HH04