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J-GLOBAL ID:202404011432214310  Research Project code:23827256

高導電率なホスホン化自己ドープ型導電性高分子の開発

高導電率なホスホン化自己ドープ型導電性高分子の開発
National award number:JPMJSF23D0
Study period:2023 - 2024
Organization (1):
Principal investigator: ( , 大学院理学研究科, 教授 )
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJSF23D0
Research overview:
プリンタブルエレクトロニクスにおける電子回路作製等において、水溶性の自己ドープ型導電性高分子は有望な材料である。本材料がこの用途で広く活用されるためには、さらなる高導電性が求められる。本研究では、分子の高い対称性により製膜時に密な集合を可能とする分子設計に基づき、高導電率な自己ドープ型導電性高分子を開発する。
Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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