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J-GLOBAL ID：202404011892910470
Research Project code：22684636
強誘電体/窒化物系半導体ヘテロ接合による革新的トランジスタの創成
強誘電体/窒化物系半導体ヘテロ接合による革新的トランジスタの創成
National award number：JPMJAX22KH
Study period：2022 - 2024
Organization (1)：
Principal investigator：
(
, 大学院工学系研究科, 助教 )
Research overview：
近年の情報通信社会の高度発達化による情報処理量や消費電力の急増が深刻な課題となっております。本研究では、情報担体となる半導体デバイスの高性能化に向けて、近年圧電性や強誘電性を示す材料として注目を集めているScAlNをGaN高電子移動度トランジスタに組み合わせることを提案します。ScAlN薄膜やScAlN/GaNヘテロ接合の物性解明、ScAlN/GaNHEMTの実証と動作原理の解明に取り組みます。
Terms in the title (5)：
Terms in the title
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Research program：
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Parent Research Project：
Hardware in Future for Resilience of Real Space
Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency
