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J-GLOBAL ID:202404015153976094
Research Project code:23828439
薄膜界面・構造の不均一性による創発トポロジカル物性
薄膜界面・構造の不均一性による創発トポロジカル物性
National award number:JPMJPR23HA
Study period:2023 - 2026
Organization (1):
Principal investigator:
(
, 大学院工学系研究科, 助教 )
DOI:
https://doi.org/10.52926/JPMJPR23HA
Research overview:
二次元物質の捻りが生む非一様なモアレ模様に起因する、新奇な電気、光応答に注目が集まっています。本研究では、物質の非一様性を広く捉え、分子線エピタキシー薄膜合成技術を活用したヘテロ界面歪みや組成制御を通して不均一性をデザインすることにより、物質のトポロジーに着目した新たな電子機能を開拓します。さらに、先端レーザー技術による物質の非平衡状態生成を通じた超高速トポロジカル相スイッチの実現にも挑戦します。
Terms in the title (5):
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Keywords automatically extracted from the title.
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Research program:
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Parent Research Project:
Nano materials for new principle devices
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency
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