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J-GLOBAL ID：202404019200829807
Research Project code：23828553
二次元物質における超高密度キャリア制御
二次元物質における超高密度キャリア制御
National award number：JPMJCR23A4
Study period：2023 - 2028
Organization (1)：
Principal investigator：
(
, 大学院工学研究科, 教授 )
DOI：
https://doi.org/10.52926/JPMJCR23A4
Research overview：
遷移金属カルコゲン化合物を中心に二次元物質の単層膜および面内・積層ヘテロ構造における高密度なキャリアの局所的・タイプ選択的ドーピング技術を確立します。本技術を基盤として、二次元物質における金属/半導体接合およびPN接合に関する学理の構築と、界面制御技術・学理に基づく機能性素子の実現を目指します。
Terms in the title (3)：
Terms in the title
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Research program：
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Parent Research Project：
Fundamental technology for semiconductor-device structures using nanomaterials
Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency
