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J-GLOBAL ID：201702225101692400   Reference number：17A0031678

メタノールと水の混合溶液を用いたミストCVDによるZnO薄膜の低温形成

Author (11)： OGAWA HIROTAKA (熊本大 大学院) ,  MIKURIYA TAKEKI (熊本大 大学院) ,  MINAMI KENSUKE (熊本大 大学院) ,  YATABE ZENJI (熊大 院 先導機構) ,  NISHI YASUTAKA (ニコン) ,  NAKAZUMI MAKOTO (ニコン) ,  IWAHORI KOICHIRO (ニコン) ,  NARA KEI (ニコン) ,  NAMIHIRA TAKAO (熊大 パルスパワー研) ,  NAKAMURA YUSUI (熊本大 大学院) ,  NAKAMURA YUSUI (くまもと有機薄膜)
Material： 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集(Web)
Volume： 42  Page： ROMBUNNO.3Aa-7 (WEB ONLY)  Publication year： 2016 
JST Material Number： U0757A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： water ,  mixed liquid ,  *chemical vapor deposition ,  *thin film ,  crystal growth ,  *thin film growth ,  compound semiconductor ,  oxide ,  X-ray diffraction ,  scanning electron microscope ,  aliphatic alcohol
Semi thesaurus term： mixed solution ,  *mist CVD ,  *ZnO thin film ,  low temperature growth ,  transparent conducting oxide ,  oxide semiconductor

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Substance index (1)： Methanol

Terms in the title (6)： メタノール ,  水 ,  混合溶液 ,  ミストCVD ,  ZnO薄膜 ,  低温形成