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J-GLOBAL ID：200902041226758291   整理番号：82A0221658

特集:急進展する半導体プロセス技術 10対1縮小投影露光装置「4800DSW」

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著者 (1件)：
田原元彦

田原元彦 について

(住商電子システム営業第1部)

住商電子システム営業第1部 について


資料名：
電子材料  (Electronic Parts and Materials)

電子材料 について


巻： 21  号： 3  ページ： 57-62,68  発行年： 1982年03月 
JST資料番号： F0040A  ISSN： 0387-0774  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
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DSWは量産におけるデザインルールが2μm前後のデバイスの量...
シソーラス用語：
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半導体集積回路

半導体集積回路 について

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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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進展

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半導体プロセス

半導体プロセス について

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縮小投影露光装置

縮小投影露光装置 について


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