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J-GLOBAL ID：200902073956758520   整理番号：83A0443085

電子ビーム直接描画およびフォトマスクを併用したマスタースライスLSIの製作

著者 (4件)： 川城三治 (パイオニア半導体研) ,  鈴木進一 (パイオニア半導体研) ,  末光尚志 (パイオニア半導体研) ,  二里木孝 (パイオニア半導体研)
資料名： 電子通信学会論文誌 C  (Transactions of the Institute of Electronics and Communication Engineers of Japan. C)
巻： 66  号： 8  ページ： 584-591  発行年： 1983年08月 
JST資料番号： S0623A  ISSN： 0373-6113  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： LSIの開発期間を短縮する目的で,ウエハへの電子ビーム直接描...

シソーラス用語： LSI【IC】 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 電子ビーム ,  直接描画 ,  フォトマスク ,  併用 ,  マスタースライス ,  LSI ,  製作