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J-GLOBAL ID：200902161150433865   整理番号：97A0957334

アリル基,ベンジル基及びスルホニル基置換のアルコール,アミンならびにアミドのナフタレン触媒リチオ化による還元的脱保護基

Reductive Deprotection of Allyl, Benzyl and Sulfonyl Substituted Alcohols, Amines and Amides Using a Naphthalene-Catalysed Lithiation.

著者 (3件)： ALONSO E (Univ. Alicante, Alicante, ESP) ,  RAMO ́N D J (Univ. Alicante, Alicante, ESP) ,  YUS M (Univ. Alicante, Alicante, ESP)
資料名： Tetrahedron  (Tetrahedron)
巻： 53  号： 42  ページ： 14355-14368  発行年： 1997年10月20日 
JST資料番号： E0234A  ISSN： 0040-4020  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低温(-78~20°C)のTHF中で,リチウム粉末と触媒として...

シソーラス用語： 触媒反応 ,...
準シソーラス用語： ナフタレン ,...

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分類 (3件)： 芳香族単環フェノール類・多価フェノール  (CF05090V) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  触媒反応一般  (CB06080F)

物質索引 (13件)： フェニルアリルエーテル ,  フェニルベンジルエーテル ,  フェニル(ドコシルオキシ)ジメチルシラン ,  フェノール ,  ドコサン-1-オール ,  N-オクチル-4-メチルベンゼンスルホンアミド ,  N-ベンジル-4-メチルベンゼンスルホンアミド ,  オクチルアミン ,  ベンジルアミン ,  N,N-ジブチルメタンスルホンアミド ,  ジブチルアミン ,  N-トシル-N-ベンジルアセトアミド ,  N-ベンジルアセトアミド

タイトルに関連する用語 (12件)： アリル基 ,  ベンジル基 ,  スルホニル基 ,  置換 ,  アルコール ,  アミン ,  アミド ,  ナフタレン ,  触媒 ,  リチオ化 ,  還元 ,  脱保護基