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J-GLOBAL ID：200902205681484429   整理番号：05A0217942

ナノプロセス時代の半導体製造装置 超臨界CO₂流体を用いた次世代洗浄装置「Arroyo(アロヨ)」

Semiconductor manufacturing equipment in the nanometer process age. Next generation cleaning equipment ”Arroyo” using the supercritical CO₂ fluid.

著者 (1件)： 松角大介 (丸紅)
資料名： 電子材料  (Electronic Parts and Materials)
巻： 44  号： 3  ページ： 88-92  発行年： 2005年03月01日 
JST資料番号： F0040A  ISSN： 0387-0774  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 紹介的記事  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次世代半導体プロセスにおいて,種々のレジスト剥離やポーラスl...

シソーラス用語： *ナノメータ加工 ,...
準シソーラス用語： 表面張力 ,...

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分類 (3件)： 半導体集積回路  (NC03162T) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  抽出  (XD02030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： プロセス ,  半導体製造装置 ,  超臨界CO2 ,  流体 ,  次世代 ,  洗浄装置