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J-GLOBAL ID：200902287461532461   整理番号：04A0853886

プロセスベント流からの低濃度の無機ガスの効率的抑制システム: スプレー塔と充填塔での界面活性剤の使用

Efficient Control System for Low-Concentration Inorganic Gases from a Process Vent Stream: Application of Surfactants in Spray and Packed Columns

著者 (3件)： CHEIN H (Ind. Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN) ,  AGGARWAL S G (Ind. Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN) ,  WU H-H (Ind. Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
資料名： Environmental Science & Technology  (Environmental Science & Technology)
巻： 38  号： 21  ページ： 5766-5772  発行年： 2004年11月01日 
JST資料番号： B0839A  ISSN： 0013-936X  CODEN： ESTHA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半導体製造工程(I)の排気からの汚染物質の抑制のため,パイロ...

シソーラス用語： 排ガス処理 ,...
準シソーラス用語： Triton X-100 ,...

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分類 (2件)： 産業排ガス処理  (SC04040S) ,  合成洗剤  (YG02030L)

物質索引 (4件)： セチルピリジニウムクロリド ,  ラウリル硫酸ナトリウム ,  ジオクチルナトリウムスルホこはく酸 ,  セチルトリメチルアンモニウムブロミド

タイトルに関連する用語 (7件)： プロセス ,  ベント ,  低濃度 ,  抑制システム ,  スプレー塔 ,  充填塔 ,  界面活性剤