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J-GLOBAL ID：200902184069236133   整理番号：03A0647250

レジスト塗布工程におけるスキャン塗布・減圧乾燥技術の開発-その機構解明へ向けての研究-

Scan coating in resist coating process and drying technology under reduced pressure -Research aiming elucidation of its mechanism.

著者 (9件)： 吉岡和敏 (東京エレクトロン九州) ,  竹下和弘 (東京エレクトロン九州) ,  河田敦 (日本ゼオン) ,  宮川隆二 (熊本県工技セ) ,  鏡裕行 (くまもとテクノ産業財団) ,  中島大輔 (熊本大 工) ,  森川晃次 (熊本大 大学院自然科学研究科) ,  奥村勝弥 (東大 先端科学技研セ) ,  大見忠弘 (東北大 未来科学技術共同研セ)
資料名： セミコン・ジャパン2001熊本フォーラム資料 地域COEの形成を目指して 熊本県地域結集型共同研究事業「超精密半導体計測技術開発」 平成13年
ページ： 41-49  発行年： 2001年 
JST資料番号： N20031495  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次世代の半導体デバイスに用いられるマスク製造技術確立のため,...

シソーラス用語： *レジスト ,...
準シソーラス用語： スキャン塗布

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： レジスト ,  塗布工程 ,  スキャン ,  減圧乾燥 ,  開発 ,  研究