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J-GLOBAL ID：200902216937580090   整理番号：08A0122430

新規マスクCD-SEM,S-9380Mのための長期限界寸法測定性能

Long-term critical dimension measurement performance for a new mask CD-SEM, S-9380M

著者 (7件)： WANG Zhigang (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki-ken, JPN) ,  SEET Kock Khuen (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki-ken, JPN) ,  FUKAYA Ritsuo (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki-ken, JPN) ,  KADOWAKI Yasuhiro (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki-ken, JPN) ,  ARAI Noriaki (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki-ken, JPN) ,  EZUMI Makoto (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki-ken, JPN) ,  SATOH Hidetoshi (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki-ken, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6730  号： Pt.3  ページ： 67304T.1-67304T.9  発行年： 2007年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新規マスクCD-SEM,S-9380Mにおいて採用された世界のマスクメーカーの要求を満足させるための計測学的システム性能を達成するための方法を紹介した。特に,チャージアップおよび汚染の抑制の結果としてのCD測定の再現性における優れた性能および高倍率での高性能測定を強調した。UV照射でマスク表面を予備処理し汚染およびチャージアップを抑制することで,100の静的測定に対して0.62nmの3σ値の結果が得られた。ラインパターンに対して,0.6nm未満の3σでの短期動的再現性および1.0nm未満の3σでの長期動的再現性が得られた。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  電子顕微鏡観察 ,  *長さ ,  *計測 ,  汚染防止 ,  帯電 ,  *再現性 ,  *臨界寸法 ,  *マスク

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O)

タイトルに関連する用語 (4件)： マスク ,  CD-SEM ,  長期 ,  限界寸法