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J-GLOBAL ID：201202256493414986   整理番号：12A0212694

高シリカCHA膜(MSM-1)の構造特性による浸透気化性能への影響と耐酸性

著者 (6件)： 杉田美樹 (三菱化学科学技術研究セ) ,  藤田直子 (三菱化学科学技術研究セ) ,  宮城秀和 (三菱化学科学技術研究セ) ,  大島一典 (三菱化学科学技術研究セ) ,  林幹夫 (三菱化学科学技術研究セ) ,  武脇隆彦 (三菱化学科学技術研究セ)
資料名： ゼオライト研究発表会講演予稿集
巻： 27th  ページ： 52  発行年： 2011年12月01日 
JST資料番号： L1365A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 薄膜 ,  *膜分離 ,  *合成ゼオライト ,  *無機分離膜 ,  水熱合成 ,  透過流束 ,  分離係数 ,  構造特性 ,  耐酸性 ,  *パーベーパレーション ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  ゼオライト膜 ,  浸透気化

分類 (2件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  合成鉱物  (CD01040K)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリカ ,  CHA ,  MSM ,  構造特性 ,  浸透気化 ,  耐酸性