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J-GLOBAL ID：201702281684122087   整理番号：17A0445415

スプレー熱分解により堆積した銅ドープしたNiO薄膜の物理的性質に及ぼす銅濃度の影響【Powered by NICT】

Effect of copper concentration on the physical properties of copper doped NiO thin films deposited by spray pyrolysis

著者 (3件)： Mani Menaka S. (PG and Research Department of Physics, Government Arts College, Coimbatore, 641018, Tamilnadu, India) ,  Umadevi G. (PG and Research Department of Physics, Government Arts College, Coimbatore, 641018, Tamilnadu, India) ,  Manickam M. (SRMV College of Arts and Science, Coimbatore, 641020, Tamilnadu, India)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 191  ページ： 181-187  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 噴霧熱分解(SP)法を用いて,酸化ニッケル(NiO)と銅をドープした酸化ニッケル薄膜の調製のための重要かつ強力な方法である。ガラス基板上に基板温度,T_s=450°Cの時,最良の膜が得られた。膜中の銅(Cu)濃度は0から8%まで変化させた。薄膜の構造的,形態学的,分光学的,光学的,および電気的性質に及ぼすCu濃度の影響を,X線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),Fourier変換赤外分光法(FTIR),UV-vis-NIR分光光度計,ホットプローブとH all系により研究した。X線回折結果は,(200)優先配向した溶射皮膜の多結晶立方晶構造を示した。格子パラメータと粒径などの構造パラメータの変化を調べた。SEM像は,NiOとCu:NiO薄膜の表面形態を示した。堆積したままの膜のFTIRは,化学的同定と関連していた。膜の光透過率と吸収スペクトルをUV-vis-NIR分光光度計によって測定した。膜の吸収係数とバンドギャップは光学的方法を用いて計算した。全てのNiOとCu:NiO膜はp型。以上の膜の抵抗率は銅濃度の増加と共に減少し,膜の電気伝導率は前駆体濃度に依存した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： モルフォロジー ,  *ドーピング ,  酸化ニッケル ,  吸収係数 ,  分光光度計 ,  格子定数 ,  *銅 ,  優先配向 ,  基板温度 ,  X線回折
準シソーラス用語： 光透過率 ,  表面形態 ,  ガラス基板 ,  噴霧熱分解法 ,  *スプレー熱分解 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 酸化ニッケル ,  銅ドープ ,  薄膜 ,  噴霧熱分解 ,  立方晶構造

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： スプレー熱分解 ,  堆積 ,  銅 ,  ドープ ,  薄膜 ,  物理的性質