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J-GLOBAL ID:201502207273707097   整理番号:15A1206712

原子層堆積によるn+とp+ドープシリコン表面の同時的不動態化のための’零電荷’SiO2/Al2O3積層

“Zero-charge” SiO2/Al2O3 stacks for the simultaneous passivation of n + and p + doped silicon surfaces by atomic layer deposition
著者 (8件):
資料名:
巻: 143  ページ: 450-456  発行年: 2015年12月 
JST資料番号: D0513C  ISSN: 0927-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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高い変換効率の実現には,インターデジタル化バック接触太陽電池のような最新のシリコン太陽電池では,n+とp+ドープSi表面に分布する欠陥を,1ステップ不動態化により同時的に不動態化する必要がある。この研究では,コロナ放電実験から,両種表面タイプの不動態化を支配するカギとなるパラメータが固定電荷密度Qfであることを明らかにした。Qfは,原子層堆積法で作成したSiO2/Al2O3積層におけるSiO2中間層の厚さにより,強い負値から正値まで注意深い調整で制御できる。このQfの制御により,単層Al2O3の場合に比べて,積層中の優れた不動態化が可能になる。例えば,SiO2中間層厚が3~14nm域の場合,高い表面ドーピング濃度Ns2×1020cm-3をもつn+Si表面の再結合パラメータは,Jon+=81fA/cm2からJon+=50fA/cm2まで減少した。シミュレーションによると,SiO2/Al2O3積層が,Al2O3不動態化層より優れており,特に適当なドーピング濃度をもつn+Si表面でこの傾向が強い。p+Si表面では,全てのALD SiO2中間層厚でJop+≦54fA/cm2が実現した。この研究で紹介したSiO2/Al2O3積層は,SiNxキャッピング,およびその後の高温加熱ステップとも両立する。さらに,この結果は,低温工程を利用する工業的ALDバッチ反応炉でも完全に再現性がある。このため,ALD SiO2/Al2O3積層は,太陽電池のn+とp+Si表面の同時的不動態化用の有望な候補になる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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