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J-GLOBAL ID：201502207503680584   整理番号：15A1140660

化学的にデポジットしたナノ結晶ZnO薄膜の構造,モルフォロジ,光学的性質に与えるpHの影響

Influence of pH on structural, morphological and optical properties of chemically deposited nanocrystalline ZnO thin films

著者 (5件)： AMALRAJ A. Sales (PSNA Coll. of Engineering and Technol., Dep. of Physics, 624 622, Dindigul, IND) ,  DHARANI A. P. (Anna Univ. Chennai, Dep. of Physics, BIT Campus, 620 024, Tiruchirappalli, IND) ,  INBARAJ P. Fermi Hilbert (Anna Univ. Chennai, Dep. of Physics, BIT Campus, 620 024, Tiruchirappalli, IND) ,  SIVAKUMAR V. (Anna Univ. Chennai, Dep. of Physics, BIT Campus, 620 024, Tiruchirappalli, IND) ,  SENGUTTUVAN G. (Anna Univ. Chennai, Dep. of Physics, BIT Campus, 620 024, Tiruchirappalli, IND)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 26  号： 11  ページ： 8877-8886  発行年： 2015年11月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は単純でコスト効率の良い連続イオン層吸着と反応法を採用して配向性の良い結晶ZnOナノロッド(NR)を成長させた。ZnOナノロッドをpHを変えてガラス基板上に成長させた。表面モルフォロジの調査で,ZnO NRの寸法と配向がpH条件の変化に影響されることが分かった。SEM解析では,ZnO NRが最適のpH濃度で直径が300nmから1μmの範囲の完全なウルツ鉱六方晶形状で垂直に成長することが明らかになった。ZnO NRのXRDパターンは,優先(101)面配向をしたZnOウルツ鉱構造の高い結晶配向を示した。UV-Vis分光器を使って記録したZnOロッドの光学スペクトルは,溶液のpHを高くすると光学バンドギャップが減少することを示した。この単純で集積した方法は,将来のナノベースバイオセンサ用途に使うZnOナノロッドの大規模成長に向けたコスト効率の良い簡便な方法となることが期待される。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ナノ結晶 ,  薄膜 ,  モルフォロジー ,  *光学的性質 ,  構造 ,  *pH【水素イオン指数】 ,  表面構造 ,  ウルツ鉱型結晶 ,  六方晶系 ,  X線回折 ,  優先配向 ,  光学ギャップ ,  効率 ,  画像
準シソーラス用語： SEM画像 ,  *ZnO薄膜 ,  コスト効率 ,  光学バンドギャップ ,  表面モルフォロジー

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 化学 ,  デポジット ,  ナノ結晶 ,  ZnO薄膜 ,  モルフォロジ ,  光学的性質 ,  pH