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J-GLOBAL ID:201502209088875407   整理番号:15A0975446

チオール-エン反応と空気酸化による高分子電解質多層膜基板上へのチオール部位導入

Introduction of thiol moieties, including their thiol-ene reactions and air oxidation, onto polyelectrolyte multilayer substrates
著者 (5件):
資料名:
巻: 459  ページ: 199-205  発行年: 2015年12月01日 
JST資料番号: C0279A  ISSN: 0021-9797  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Traut’s試薬(2-イミノチオラン)によるSH基を用いた高分子電解質(ポリアリルアミン塩化水素とポリアクリル酸)の無架橋及び架橋交互積層(LbL)集合体の誘導体化について述べた。このチオール化を温度,濃度及びpHに関して最適化した。生じるSH基の空気中の安定性をX線光電子分光(XPS)により決定した。空気酸化は材料化学におけるチオール-エン反応の利用に関して明白な影響を持っているが,文献にはこのテーマについてはほとんど報告がない。231.5eV(酸化された硫黄),227.6eV(チオール基),及び225.4eV(チオラート基)の三つの主なS2sピークがXPSで観察された。速い酸化のため,チオレート化表面は調製された直後に直ちに用いることを推奨する。254nm紫外光により,高分子電解質多層上のチオール基は1,2-ポリブタジエン(PBd)と反応し,吸着PBd上の残りの炭素-炭素二重結合は他のチオールと同様に反応する。フッ素化チオールの場合,高い水接触角(約120°)を持つ表面が得られる。適切な光照射を行うと誘導体化が生じるが,長く照射すると集合体にダメージを与える。水に長時間浸漬すると高分子電解質-チオール-PBD-チオール集合体は基板から剥離する。アミノシランを用いた表面シラン処理はこの剥離を防止し安定な集合体をもたらす。この集合体は種々の安定性試験に耐える。本研究における材料解析に用いる解析技術はX線光電子分光(XPS),分光偏光解析法(SE),原子間力顕微鏡(AFM)及び接触角ゴニオメトリである。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
分類
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有機化合物の薄膜  ,  界面化学一般  ,  その他の無触媒反応 
タイトルに関連する用語 (4件):
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