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J-GLOBAL ID：201602235197360302   整理番号：16A0898534

1種類の高水和定数Ga類核磁気共鳴イメージング造影剤の研究がある。【JST・京大機械翻訳】

A New Type of Magnetic Resonance Imaging Contrast Agents with High Hydration Numbers

著者 (4件)： Hao Shijing (Shanghai Key Laboratory of Advanced Polymeric Materials,School of Materials Science and Engineering,East China University of Science and Technology) ,  Xiong Rulin (Shanghai Key Laboratory of Advanced Polymeric Materials,School of Materials Science and Engineering,East China University of Science and Technology) ,  Cheng Likun (Shanghai Key Laboratory of Advanced Polymeric Materials,School of Materials Science and Engineering,East China University of Science and Technology) ,  Hu Aiguo (Shanghai Key Laboratory of Advanced Polymeric Materials,School of Materials Science and Engineering,East China University of Science and Technology)
資料名： Huadong Ligong Daxue Xuebao. Ziran Kexue Ban  (Huadong Ligong Daxue Xuebao. Ziran Kexue Ban)
巻： 42  号： 1  ページ： 28-34,103  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2920A  ISSN： 1006-3080  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 1種類の高水和を持つ定数(Q)のGa類造影剤を合成し,これらの錯体は2つのニトリト基を含むと4つのカルボン酸基のシリンダ活性磁気と有機配位子から成る,高水和定数の特徴を有する。1H核磁気共鳴スペクトル、NMRおよび高分解能質量分析は配位子及び錯体の構造によりキャラクタリゼーションを行った。蛍光寿命分析によって検出した錯体のQ値が3前後である。これら錯体の縦方向緩和率(R_1)は8.5~10.1(MM)(-1)S(-1)であり,およそ合Ga商用造影剤ジエチレントリアミンペンタ酢酸(GD-DTPA)の3倍である。細胞実験は,これらの造影剤は非常に低い細胞毒性を有し,これは臨床応用において非常に重要なであることを確認した。これらの錯体は合成簡便で、緩和率が高い及び毒性が低いなどの特徴を有し,調製がより低コストの高性能造影剤のために基礎を築く。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ガリウム ,  Q値 ,  毒性 ,  *造影剤 ,  緩和速度 ,  *磁気 ,  キャラクタリゼーション ,  錯体 ,  細胞毒性 ,  蛍光寿命 ,  カルボキシ基
準シソーラス用語： カルボキシル基 ,  臨床応用 ,  NMRスペクトル ,  有機配位子 ,  *MRI造影剤 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： N-oxides ,  gadolinium complexes ,  MRI contrast agents ,  longitudinal relaxivity ,  hydration numbers

分類 (2件)： 遷移金属元素(鉄族元素を除く)の錯体の結晶構造  (BK09030X) ,  第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水和 ,  定数 ,  Ga ,  核 ,  磁気共鳴イメージング造影剤 ,  研究