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J-GLOBAL ID:201602255437225124   整理番号:16A1024103

1種類の新しいリン酸基光控保護基の合成及びその応用研究【JST・京大機械翻訳】

Synthesis and Application of A New Photolabile Protecting Group for Phosphate Derivatives
著者 (5件):
資料名:
巻: 24  号:ページ: 198-202,210  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2917A  ISSN: 1005-1511  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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チオフェノールを出発原料として,ヨード反応、SUZUKI-MIYAURAカップリング反応,脱水反応および酸化反応を経て調製した4-ケト-3-フェニル-4H-ベンゾ[B]チオフェン-2-カルボアルデヒド(4);4M-クロロペルオキシ安息香酸酸化を経た後,トルエンに対する室温HuangXianJing于と反応して調製した2-トシルヒドラゾンは-3-フェニル-4H-HuangXian基Benそしてチオピラン(6);6経BAMFORD-STEVENS反応基光控1種類の新しいリン酸保護基-2-ジアゾ-3-フェニル-4H-HuangXian基Benそしてチオピラン(7),その構造を1H NMR,(13)C NMRおよびHR-MSにより特性評価し,合成した。7リン酸基の保護と保護光控脱反応に適用した。結果:保護反応は温和条件下でスムーズに行うことが可能である。紫外分光法と蛍光分光法を光控脱保護反応のモニタリング結果は示した:光控脱保護反応が迅速である(≦15 MIN),保護された化合物の脱保護の収率が高い(≧95%)。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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貴金属触媒  ,  付加反応,脱離反応 
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