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J-GLOBAL ID：201602257935054963   整理番号：16A0600317

FIBナノトモグラフィーを用いたMgB2₂細線における多孔性の3次元解析【Powered by NICT】

Three-Dimensional Analysis of the Porosity in MgB₂ Wires Using FIB Nanotomography

著者 (9件)： Hagner M. (Univ. of Konstanz, Konstanz, Germany) ,  Fritz J. M. (Univ. of Konstanz, Konstanz, Germany) ,  Alknes P. (Eur. Organ. for Nucl. Res., CERN, Geneva, Switzerland) ,  Scheuerlein C. (Eur. Organ. for Nucl. Res., CERN, Geneva, Switzerland) ,  Zielke L. (Dept. of Microsyst. Eng., Univ. of Freiburg, Freiburg, Germany) ,  Vierrath S. (Dept. of Microsyst. Eng., Univ. of Freiburg, Freiburg, Germany) ,  Thiele S. (Dept. of Microsyst. Eng., Univ. of Freiburg, Freiburg, Germany) ,  Bordini B. (Eur. Organ. for Nucl. Res., CERN, Geneva, Switzerland) ,  Ballarino A. (Eur. Organ. for Nucl. Res., CERN, Geneva, Switzerland)
資料名： IEEE Transactions on Applied Superconductivity  (IEEE Transactions on Applied Superconductivity)
巻： 26  号： 3  ページ： ROMBUNNO.6200305.1-5  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0177A  ISSN： 1051-8223  CODEN： ITASE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 気孔率はMgB2ワイヤにおけるいくつかの電流制限機構の一つである。微細構造均一性と種々のex situおよびin situ MgB2パウダーインチューブ(PIT)ワイヤにおける空隙率分布を比較した。サブミクロン構造を,集束イオンビームナノトモグラフィーを用いて決定した。ex situワイヤは等方性微細構造,横方向と縦方向のフィラメント方向に同一の蛇行性の観点で定量化したを示した。新しいex situワイヤ生成で非常に均一な微細構造は強く改善された臨界電流密度のための一つの理由であろう。in situワイヤは軸方向の低い屈曲度を持つ異方性微細構造を持つ。in situフィラメントの微細構造不均一性を,微細構造特性化と材料と超伝導特性との比較を特に難しくしている。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 臨界電流密度 ,  不均一性 ,  等方性 ,  キャラクタリゼーション ,  フィラメント ,  空隙率 ,  屈曲度 ,  微細構造 ,  *細線 ,  超伝導 ,  金属線 ,  集束イオンビーム ,  *多孔性
準シソーラス用語： *ホウ化マグネシウム ,  *ナノトモグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 伝導 ,  FIBナノトモグラフィー ,  MgB2 ,  porosity

分類 (4件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G) ,  超伝導材料  (BM04041W) ,  超伝導体の物性一般  (BM04021A) ,  Josephson接合・素子  (BM04043E)

タイトルに関連する用語 (5件)： FIB ,  ナノトモグラフィー ,  細線 ,  多孔性 ,  3次元解析