文献

J-GLOBAL ID：201602272820338660   整理番号：16A0836353

3.0%NaCl溶液中で二種のインダゾール誘導体による銅の腐食抑制作用に関する実験的および理論的研究

Experimental and theoretical studies on the corrosion inhibition of copper by two indazole derivatives in 3.0% NaCl solution

著者 (4件)： Qiang Yujie (College of Chemistry and Chemical Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, China) ,  Zhang Shengtao (College of Chemistry and Chemical Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, China) ,  Xu Shenying (College of Chemistry and Chemical Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, China) ,  Li Wenpo (College of Chemistry and Chemical Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, China)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 472  ページ： 52-59  発行年： 2016年06月15日 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NaCl溶液中で銅に対するインダゾール(IA)および5-アミノインダゾール(AIA)の阻害機構を調べるために,腐食実験および理論的計算を実施した。重量損失および電気化学実験から得た結果は十分に一致し,この化合物が抑制率順,AIA>IAをもつ,高効率抑制剤であることを示し,電界放出走査電子顕微鏡(FESEM)観察によってさらに確認した。そのうえ,量子化学計算および分子動力学(MD)シミュレーションは,調べた抑制剤が共に平行に銅表面上で強く吸着することを示した。銅基板上でのこの分子の吸着は,Langmuir等温式に従うことが明らかになった。Copyright 2016 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *腐食抑制作用 ,  *銅 ,  走査電子顕微鏡 ,  *吸着 ,  吸着等温式 ,  *計算 ,  *計算機シミュレーション ,  曲線 ,  インピーダンススペクトル ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物
準シソーラス用語： 電界放出走査電子顕微鏡 ,  Langmuir等温式 ,  *量子化学計算 ,  *分子動力学シミュレーション ,  電位走査曲線

著者キーワード (6件)： Corrosion inhibition ,  Adsorption ,  Copper ,  Electrochemical test ,  Quantum chemical calculation ,  Molecular dynamic simulation

分類 (4件)： 界面化学一般  (CB12010J) ,  電気化学一般  (CB07010N) ,  分子の電子構造  (BH05010Q) ,  ゆらぎ,ランダム過程,Brown運動,輸送過程の一般的理論  (BA08020B)

物質索引 (2件)： インダゾール ,  1H-インダゾール-5-アミン

タイトルに関連する用語 (7件)： 溶液 ,  インダゾール誘導体 ,  銅 ,  腐食抑制作用 ,  実験 ,  理論 ,  研究