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J-GLOBAL ID：201602274413286860   整理番号：16A0548610

van der Waals構造の表面エネルギーおよび濡れ性

Surface energy and wettability of van der Waals structures

著者 (10件)： Annamalai Meenakshi (NUSNNI-NanoCore, National University of Singapore (NUS), Singapore 117411. [e-mail] [e-mail]) ,  Gopinadhan Kalon ,  Han Sang A. ,  Saha Surajit ,  Park Hye Jeong ,  Cho Eun Bi ,  Kumar Brijesh ,  Patra Abhijeet ,  Kim Sang-Woo ,  Venkatesan T.
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 8  号： 10  ページ： 5764-5770  発行年： 2016年03月14日 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面の濡れ挙動はvan der Waals(vdW)力により影響を受けると考えていたが,このことについての明確な実証は無かった。二次元vdW層化材料を分離することにより,この仮説を試験することが可能になった。今回,化学気相成長法(CVD)により成長した,六方晶系窒化ホウ素(h-BN)およびSiO₂/Siの数層上のグラフェン,二硫化モリブデン(MoS₂)および二硫化タングステン(WS₂)を含むvdWヘテロ構造の濡れ挙動を報告した。今回の研究により,今回のクラスの二次元材料が濡れ透過性は完全でなく,支配的なvdW力のために,その下の基質により今回の二次元材料の濡れ特性にかなりの影響があるらしいことが明確に分かった。接触角の測定により,グラフェンおよびグラフェン状層化遷移金属ジカルコゲナイドがLondon-vdW媒介濡れ性が支配的である本質的に分散した表面を有していることが分かった。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *濡れ ,  *表面エネルギー ,  *van der Waals力 ,  化学蒸着 ,  窒化ホウ素 ,  酸化ケイ素 ,  ケイ素 ,  接触角 ,  硫化モリブデン ,  タングステン化合物 ,  多硫化物
準シソーラス用語： 六方晶系窒化ホウ素 ,  二硫化モリブデン ,  二硫化タングステン

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (3件)： VAN ,  表面エネルギー ,  濡れ性