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J-GLOBAL ID：201702218024905790   整理番号：17A0363863

蒸着後焼なましにおけるY_2O_3膜の組成,微細構造,および機械的性質【Powered by NICT】

Composition, microstructure, and mechanical properties of Y₂O₃ films in post-deposition annealing

著者 (5件)： Xu Shangjun (College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Yao Zhengjun (College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Zhou Jintang (College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Zhou Jintang (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Structural Materials and Application Technology, PR China) ,  Fang Chao (College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 186  ページ： 349-352  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一連Y_2O_3膜の反応性マグネトロンスパッタリングにより調製し,さらに350°Cと500°Cでアニールした。示差走査熱量測定は,蒸着したままの膜の物理吸着した酸素(O_δ)は 268.8から 336.5°CまでO_2(g)に脱着し,O_δの脱着量は22.6%であったことを明らかにした。すれすれ入射X線回折の結果は,膜が全ての焼なまし状態における立方晶相(111)面外のままであったことを示した。顕微鏡写真は堆積したままの膜と350°Cでアニールした膜は500°Cでアニールした膜でほとんど消失した規則的な柱状構造粒を含んでいることを明らかにした。350°CでアニールしたY_2O_3膜は優れた機械的性質,280GPaの弾性率(E_IT),および12GPaの硬度(H_IT)を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 弾性係数 ,  *焼なまし ,  硬度 ,  示差走査熱量測定 ,  顕微鏡写真 ,  *微細構造 ,  物理吸着 ,  *機械的性質 ,  脱着 ,  *蒸着
準シソーラス用語： 柱状構造 ,  すれすれ入射X線回折 ,  反応性マグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Y_2O_3薄膜 ,  相変態 ,  Microstructure ,  機械的性質

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 蒸着 ,  焼なまし ,  組成 ,  微細構造 ,  機械的性質