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J-GLOBAL ID:201702220210593388   整理番号:17A0443958

反応性スパッタリングにより成長させたBi_2O_3薄膜の構造,形態,および光学的性質【Powered by NICT】

Structural, morphological, and optical properties of Bi2O3 thin films grown by reactive sputtering
著者 (8件):
資料名:
巻: 624  ページ: 41-48  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Bi_2O_3薄膜は金属Biターゲットからの反応性RFスパッタリングを用いて成長させた。膜の形態,構造及び光学的性質に及ぼす種々の蒸着パラメータ(基板温度,作用ガス中のターゲットと酸素含有量に及ぼす印加電力)の影響を調べた。作動ガスのO_2/(Ar+O_2)比に依存して,ビスマス,δBi_2O_3,αBi_2O_3又はこれらの相の混合物を堆積させ,[111]-配向δBi_2O_3薄膜の成長のための狭い窓を有することができる。δBi_2O_3相は350°C(空気中)まで室温から安定であり,αBi_2O_3への不可逆転移が起こる。相変態もTEM試料調製中に生じ,イオンミリングプロセスから固有の加熱のために,液体窒素冷却を用いた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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