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J-GLOBAL ID：201702220905569232   整理番号：17A0697724

DC負バイアスしたCoターゲットを用いたECR窒素/アルゴンプラズマにより堆積したCo-N膜の磁気特性【Powered by NICT】

Magnetic properties of Co-N films deposited by ECR nitrogen/argon plasma with DC negative-biased Co target

著者 (6件)： Li H. (Department of Modern Physics, University of Science and Technology of China, Hefei, Anhui 230026, People’s Republic of China) ,  Zhang Y.C. (Department of Modern Physics, University of Science and Technology of China, Hefei, Anhui 230026, People’s Republic of China) ,  Yang K. (Department of Modern Physics, University of Science and Technology of China, Hefei, Anhui 230026, People’s Republic of China) ,  Liu H.X. (Department of Modern Physics, University of Science and Technology of China, Hefei, Anhui 230026, People’s Republic of China) ,  Zhu X.D. (Department of Modern Physics, University of Science and Technology of China, Hefei, Anhui 230026, People’s Republic of China) ,  Zhou H.Y. (Department of Modern Physics, University of Science and Technology of China, Hefei, Anhui 230026, People’s Republic of China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 406  ページ： 110-114  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子サイクロトロン共鳴(ECR)窒素/アルゴンプラズマ中のDC負バイアスCoターゲットを導入することにより,Co_4N相を含むCo-N膜をSi(100)基板上に合成した。膜の磁気的性質に及ぼすプロセスパラメータの影響を調べた。Co-N膜の磁気特性はN_2/Ar流量比,基板温度,ターゲットバイアス電圧とともに変化することが分かった。飽和磁化M_sはN_2/Arガス流量比を増加させるか,またはターゲットバイアス電圧を減少させることにより減少したが,保磁力H_cは増加し,プラズマ蒸気中のNまたはCo活性種の相対的濃度の変化に起因している。磁気特性は成長温度と共に複雑な依存性であり,成長温度の影響を基板上に原子移動度に関係することを示した。本研究では,侵入型化合物を合成し,膜の磁気特性を調整するためのECRプラズマ化学蒸着の可能性を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 保磁力 ,  *バイアス ,  *プラズマ ,  プロセスパラメータ ,  侵入型化合物 ,  飽和磁化 ,  *磁気的性質 ,  ECRプラズマ ,  *窒素 ,  基板温度 ,  化学蒸着
準シソーラス用語： 成長温度 ,  ガス流量 ,  バイアス電圧 ,  流量比 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： Co-N膜 ,  ECRプラズマ ,  磁気的性質

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (8件)： DC ,  CO ,  ターゲット ,  窒素 ,  アルゴン ,  プラズマ ,  堆積 ,  磁気特性