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J-GLOBAL ID：201702221592285391   整理番号：17A0716552

嫌気性硫化物溶液中での銅の上の不動態皮膜成長の安定性

The stability of passive film growth on copper in anaerobic sulphide solutions

著者 (5件)： KONG Decheng (Univ. Sci. and Technol. Beijing, Beijing, CHN) ,  DONG Chaofang (Univ. Sci. and Technol. Beijing, Beijing, CHN) ,  XU Aoni (Univ. Sci. and Technol. Beijing, Beijing, CHN) ,  HE Chang (Univ. Sci. and Technol. Beijing, Beijing, CHN) ,  LI Xiaogang (Univ. Sci. and Technol. Beijing, Beijing, CHN)
資料名： Corrosion Engineering, Science and Technology  (Corrosion Engineering, Science and Technology)
巻： 52  号： 3/4  ページ： 188-194  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0684A  ISSN： 1478-422X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高レベル放射性廃棄物の大深度地下埋設において使用される容器は,高い耐redox性から銅が適していると考えられるが,地下環境での鉱物(例えばFeS₂)や硫酸還元細菌(SRB)の影響を受けることも想定せねばならない。本研究においては,この課題を明らかにするために,硫化物溶液中での銅の電気化学的評価を行なった。供試材として無酸素銅を用い,脱ガスした0.1M・NaCl+2×10^-4M・Na₂S・9H₂O溶液(pH9.0)中における電気化学的評価(EIS,Mott-Schottky解析,局所EIS)および走査電子顕微鏡観察を行なった。この実験から,このような環境においては,無酸素銅の耐食性は印加電圧の上昇と共に低下し,分極時間の増加と共に増大することを示し,表面の不動態皮膜は安定であることを明らかにした。

シソーラス用語： *無酸素銅 ,  *硫化物 ,  塩化物 ,  水溶液 ,  脱ガス ,  *不動態皮膜 ,  *安定性 ,  高レベル廃棄物 ,  容器 ,  地中埋設物
準シソーラス用語： 高レベル放射性廃棄物

分類 (1件)： 腐食基礎理論,腐食試験  (WB03020Q)

タイトルに関連する用語 (7件)： 嫌気性 ,  硫化物 ,  溶液 ,  銅 ,  不動態皮膜 ,  成長 ,  安定性