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J-GLOBAL ID:201702224373427961   整理番号:17A0450964

可視光照射下で優れた光触媒性能をもつ直接ZスキームMoS_2/Bi_2WO_6ヘテロ接合光触媒の容易な作製【Powered by NICT】

Facile fabrication of direct Z-scheme MoS2/Bi2WO6 heterojunction photocatalyst with superior photocatalytic performance under visible light irradiation
著者 (7件):
資料名:
巻: 335  ページ: 140-148  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0721B  ISSN: 1010-6030  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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効率的な電荷分離だけでなく,優れた酸化還元能を有する直接Zスキーム光触媒系は大きな検討されている。本研究では,直接ZスキームMoS_2/Bi_2WO_6ヘテロ接合を容易な方法で調製した。ヘテロ構造はBi_2WO_6ナノシートの表面にMoS_2ナノ粒子を堆積することにより形成した。調製されたままのMoS_2/Bi_2WO_6複合材料は,個々のMoS_2とBi_2WO_6のそれよりも優れた光触媒活性を示すことが分かった。4at%MoS_2含有量を持つ最適複合材料は最高の光触媒活性を示した。活性種捕捉実験,光ルミネセンス分光分析,および光電流応答に基づいて,可能な増強された光触媒機構だけでなく,光生成電子-正孔対の分離効率を増加させるが,高い光触媒性能のための優れた酸化と還元能を保有できる直接Zスキームヘテロ接合システムに帰することができる。本研究では,環境浄化とエネルギー変換のための他のBi_2WO_6ベース直接Z-スキーム光触媒系を開発するための有効な手法を提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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光化学反応 
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