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J-GLOBAL ID：201702224504077313   整理番号：17A0598731

トリ(エチレンオキシド)部位を持ったオキサチュバ[4]アレーンに基づくホスト-ゲスト錯体のH₂S-応答性下限臨界溶解温度

H₂S-Responsive Lower Critical Solution Temperature of the Host-Guest Complex Based on Oxatub[4]arene with Tri(ethylene oxide) Moieties

著者 (6件)： YANG Liu-Pan (South Univ. Sci. and Technol. of China, Shenzhen, CHN) ,  YANG Liu-Pan (Dalian Inst. of Chemical Physics, Chinese Acad. of Sci., Dalian, CHN) ,  LIU Hao (South Univ. Sci. and Technol. of China, Shenzhen, CHN) ,  LU Song-Bo (South Univ. Sci. and Technol. of China, Shenzhen, CHN) ,  JIA Fei (South Univ. Sci. and Technol. of China, Shenzhen, CHN) ,  JIANG Wei (South Univ. Sci. and Technol. of China, Shenzhen, CHN)
資料名： Organic Letters  (Organic Letters)
巻： 19  号： 5  ページ： 1212-1215  発行年： 2017年03月03日 
JST資料番号： W1171A  ISSN： 1523-7060  CODEN： ORLEF7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： H₂S-応答性下限臨界溶解温度挙動を示す,水溶性オキサチュバ[4]アレーン(WTA4)の合成とホスト-ゲスト特性について述べた。この大環状ホストは,大疎水性表面とニトロ基を持った,四級アンモニウムカチオン(7⁺)ゲストと好適に会合した。ホスト-ゲストシステムに基づき,化学応答性の濁りと透明間の変換を達成した。WTA4水溶液を曇点より高い43°Cに加熱すると濁りが生じて,同温度で7⁺を添加すると,このWTA4と7⁺の錯体の曇点温度が,より低くなり透明化した。さらに,同温度でNaHSを加えると,WTA4と7⁺錯体の会合が,ゲストの7⁺のニトロ還元分解により破壊して濁りを生じた。

シソーラス用語： 大環状化合物 ,  *芳香族縮合化合物 ,  エーテル ,  脂肪族化合物 ,  *錯体 ,  *臨界溶解温度 ,  *硫化水素 ,  曇り点 ,  *アンモニウム化合物 ,  芳香族ニトロ化合物 ,  混濁度 ,  透過率 ,  ピリジニウム
準シソーラス用語： エチルエーテル類 ,  *ナフタレン誘導体 ,  *ホスト-ゲスト錯体 ,  *下限臨界溶解温度 ,  光透過率 ,  *四級アンモニウム化合物

分類 (4件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  ナフタレン  (CF06020D) ,  脂肪族化合物一般  (CF03010X) ,  一成分系の相平衡・状態図  (CB03013K)

物質索引 (11件)： 1,1′-エチレンビス(1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン-1-イウム) ,  1,4-ジメチル-1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン-1,4-ジイウム ,  1,5-(2,6-ジ(1,4,7,10-テトラオキサウンデカン-1-イル)ナフタレン-5,1-ジイル)ビス(2-オキサプロパン-1,3-ジイル)ビス(2,6-ジ(1,4,7,10-テトラオキサウンデカン-1-イル)ナフタレン-1,5-ジイル)ビス(2-オキサプロパン-1,3-ジイル)ナフタレン ,  1,5-ジ(ブロモメチル)-2,6-ジ(1,4,7,10-テトラオキサウンデカン-1-イル)ナフタレン ,  2,6-ジ(1,4,7,10-テトラオキサウンデカン-1-イル)ナフタレン ,  2,6-ジ(1,4,7,10-テトラオキサウンデカン-1-イル)ナフタレン-1,5-ジメタノール ,  4,4′-ビ(1-メチルピリジニウム) ,  4-メルカプトメチルアニリン ,  ジメチル(4-ニトロベンジル)アミン ,  ジメチルジ(4-ニトロベンジル)アミニウム ,  ジメチルジベンジルアミニウム

タイトルに関連する用語 (7件)： トリ ,  エチレンオキシド ,  アレーン ,  ホスト-ゲスト錯体 ,  H2S ,  応答性 ,  下限臨界溶解温度